Yuqori toza izostatik grafit

Yuqori toza izostatik grafit sovuq izostatik kalıplama (CIP) va ultra yuqori haroratli grafitlash jarayoni (2800 ℃ dan yuqori) tomonidan tayyorlangan maxsus grafit materialidir. Uning uglerod miqdori ≥99.9995%, asosiy metall aralashmalari (Fe, Ni, Cr) ≤0.3ppm, bor/fosfor miqdori ≤0.05ppm, kul miqdori ≤5ppm. Yarimo'tkazgich sinfining toza standartiga javob bering (SEMI F63). Materialning ichki tuzilishi uch o'lchovli izotropik, don hajmi bir xil (D50 = 10-15 mkm), zichligi 1.85-1.90 g / sm³ va u juda yuqori issiqlik o'tkazuvchanligiga (120-150 Vt / m · K) va juda past issiqlik kengayish koeffitsientiga ega (4.0x10K) 6-20 ℃). U 1000 ℃ inert atmosferada uzoq vaqt davomida ishlatilishi mumkin va termal zarba davrlari soni 1600 martadan ko'proq (500 ℃ ↔ xona haroratining keskin o'zgarishi).

Murakkab ishlab chiqarish jarayoni

Xom ashyoni tozalash

Substrat sifatida ultra past oltingugurtli neft koksidan foydalangan holda, 99.9999% metall aralashmalari plazma kimyoviy bug'larini tozalash texnologiyasi bilan olib tashlandi va xlorid kislotasi-hidroflorik kislota gradientli tuzlash jarayoni bilan kul miqdori dastlabki 300ppm dan 5ppm dan kamaytirildi.

Izostatik presslash kalıplama

200 daqiqa davomida 60MPa ultra yuqori bosimli suyuq muhitda chang zarralarining keng qamrovli zichligi amalga oshiriladi, material zichligi og'ishi 0.5% dan kam bo'ladi va an'anaviy qoliplash jarayonining zichlik gradienti nuqsoni butunlay yo'q qilinadi.

Ultra yuqori haroratli grafitizatsiya

Uzluksiz grafitizatsiya 120-2800 ℃ da argon gazining himoyasi ostida 3200 soat davomida amalga oshirildi. Grafitlanish darajasi ≥98%, panjara qatlami oralig'i (d002) 0.3354-0.3360nm da barqaror va izotroplik darajasi (CTE anizotropiyasi) ≤3% edi.

Nozik ishlov berish va sirtni qayta ishlash

U besh o'qli CNC dastgohi yordamida qayta ishlanadi, o'lchov aniqligi ±0.01 mm va sirt pürüzlülüğü Ra≤0.4 μm. Yuqori haroratli uchuvchi moddalarning chiqishini <1 μg/sm²·s gacha kamaytirish uchun SiC yoki TaC kimyoviy bug' cho'ktirish qoplamalari (qalinligi 2-5 μm) ixtiyoriydir.

Yarimo'tkazgich sohasida asosiy dastur

Monokristalli kremniy o'sishi uchun termal maydon tizimi

Crucible va isitgich: argon muhitida 1600 ℃ da 6000 soat davomida deformatsiyasiz uzluksiz ishlaydi, 300 mm plastinka o'sishi eksenel harorat gradiyentini ≤2 ℃/sm ga qo'llab-quvvatlaydi, uglerod ifloslanishi natijasida hosil bo'lgan panjara nuqsoni darajasi <0.05/sm².

Issiqlik izolyatsiyasi silindri va oqim yo'naltiruvchi silindr: g'ovakli gradient strukturasi dizayni (g'ovakliligi 5-20% sozlanishi), issiqlik nurlanishining samaradorligini boshqarish aniqligi ±1.5%, bitta kristalli kremniyning kislorod miqdorini nazorat qilishga yordam beradi <10¹⁴ atom/sm³.

Ion implantatsiyasi va etching uskunalari

Rulman tepsisi va fokusli halqa: sirt metall ifloslanishi ≤0.1ppb, 10¹⁶ ion/sm² dozali bombardimonga chidamlilik va an'anaviy materiallarga qaraganda 3 baravar uzoqroq xizmat qilish muddati.

Plazma elektrodi: elektron emissiya barqarorligi og'ishi <0.5%, 5nm jarayonni o'yib ishlashning bir xillik talablariga javob beradi.

Murakkab yarimo'tkazgichlarning epitaksial o'sishi

MOCVD grafit asosi: GaN/SiC qalinligi bir xil emasligi < ±1.5%, sirt qoplamasi grafit uchuvchanligidan kelib chiqadigan nuqson zichligini < 0.01/sm² gacha kamaytiradi.

Tez tafsilot:

1. Boshqa nomlar: Izostatik presslangan grafit, izotropik grafit.

2. Ilova: Yagona kristalli pechning termal maydoni, EDM elektrodi, fotovoltaik silikon gofret grafit qolipi.

3. Asosiy parametrlar: Soflik ≥99.9995%, zichlik 1.80-1.85 g/sm³.

Monokristalli kremniy o'sish pechining termal maydon yig'ilishi.

Elektrodeşarjli ishlov berish (EDM) elektrodlari.

Fotovoltaik kremniy gofret quyish uchun grafit qolipi.

Sanoatning yuqori tozaligi (5N darajasi), jarayonning ifloslanishini kamaytiradi.

Izotrop tuzilish, bir xil mexanik xususiyatlar.

± 0.01 mm bardoshlikgacha nozik ishlov berishni qo'llab-quvvatlang.