Issiqlik maydoni grafit qismlari

Issiqlik maydoni grafit qismlari epitaksial reaktorlarda issiqlik muhitining asosiy arxitekturasini tashkil qiladi, bu yerda haroratning izchilligi kristall sifatini, qo'shimchalarning aniqligini va nuqson zichligini bevosita belgilaydi. Si va SiC epitaksiyasida - ish harorati 1600°C dan oshishi mumkin bo'lgan joylarda - bizning izostatik grafit isitgichlarimiz, susseptorlarimiz, reflektorlarimiz va izolyatsiya qalqonlarimiz plyonkaning bir tekis o'sishi uchun zarur bo'lgan barqaror va simmetrik issiqlik maydonini yaratadi.

Ushbu komponentlar minimal zarrachalar hosil bo'lishini va optimal plastina cheti va markazdan chetga bir xillikni ta'minlash uchun juda past metall ifloslanishiga ega ultra yuqori tozalikdagi grafit navlaridan foydalangan holda ishlab chiqariladi. H₂, Cl₂, NH₃ va uglevodorod prekursorlariga chidamlilik uchun ishlab chiqilgan ilg'or SiC qoplamalari bilan birgalikda Semixlabning grafit qismlari uzoq muddatli, yuqori haroratli sikllar orqali strukturaviy yaxlitlik va issiqlik samaradorligini saqlab qoladi, bu esa gorizontal va vertikal epitaksiya tizimlarida texnik xizmat ko'rsatish orasidagi o'rtacha vaqtni sezilarli darajada uzaytiradi.

Epitaksiyadan tashqari, termal maydon grafit komponentlari keng polosali qurilmalar, xususan, SiC MOSFETlar uchun yuqori haroratli tavlashda hal qiluvchi rol o'ynaydi. Ushbu qo'llanmalar inert yoki vakuum atmosferasida 1700–1800°C ga yaqin haroratlarda barqarorlikni talab qiladi. Semixlab tomonidan ishlab chiqilgan grafit isitgichlari, susseptor patnislari va izolyatsiya silindrlari qo'shimcha moddalarni faollashtirish, ohmik kontakt hosil bo'lishi va nuqsonlarni tuzatish paytida plastinkaga bir xil issiqlik ta'sirini ta'minlaydi. Bizning komponentlarimiz plastinka yoyi, sirpanish chiziqlari yoki kristall stressni keltirib chiqarishi mumkin bo'lgan issiqlik gradiyentlarini yumshatadi - bularning barchasi qurilmaning ishlashi va samaradorligiga salbiy ta'sir qiladi. Semixlab eritmalari tomonidan ishlab chiqarilgan optimallashtirilgan termal maydon qo'shimcha moddalarni faollashtirish samaradorligini oshiradi va termal zarbani kamaytiradi, bu esa takrorlanadigan va qat'iy boshqariladigan yuqori haroratli jarayonlarni ta'minlaydi.

Czochralski bitta kristalli pechining termal maydoni

Yarimo'tkazgichli plastinkalar sekundiga yuzlab daraja tez isitish va sovutish sikllaridan o'tishi kerak bo'lgan RTP va RTA tizimlarida aniq termal maydon komponentlari ham bir xil darajada muhimdir. RTP asosan lampa asosidagi isitishdan foydalansa-da, ko'pincha pirolitik grafit reflektorlari, kam gaz chiqaradigan grafit tayanchlari va muhandislik himoya komponentlaridan iborat ichki termal arxitektura nurlanish energiyasining plastinkaga qanday yetib borishini belgilaydi.

Semixlabning grafit qismlari radiatsion issiqlik taqsimotini barqarorlashtirish, chekka nuqtalarining ta'sirini bostirish va deformatsiya yoki gaz chiqmasdan ultra tez issiqlik o'tishlarini qo'llab-quvvatlash uchun mo'ljallangan. Bu qo'shimcha moddalarni faollashtirish, silitsid hosil bo'lishi, ultra sayoz birikmalarni tavlash, darvoza stackini optimallashtirish va ilg'or CMOS tugunlarida kuchlanish muhandisligi bilan ishlov berish kabi muhim bosqichlar uchun jarayonlarning bir xilligini ta'minlaydi.

Ushbu yuqori haroratli jarayonlarning barchasida Semixlabning har bir issiqlik maydoni grafit qismi issiqlik oqimini optimallashtirish, harorat gradiyentlarini kamaytirish va takroriy issiqlik zarbasi, korroziv kimyoviy moddalar va o'ta toza vakuum muhitida ishonchli ishlash uchun ishlab chiqilgan. Bizning integratsiyalashgan sifat tizimimiz yetakchi yarimo'tkazgich uskunalari ishlab chiqaruvchilarining talablariga javob beradigan yoki ulardan oshib ketadigan o'lchov aniqligi, sirt sofligi va qoplama yopishqoqligining mustahkamligini ta'minlaydi. Semixlab Xitoyda sizning uzoq muddatli hamkoringiz bo'lishga chin dildan umid qiladi.