Qattiq SiC gazli dush boshi

Solid SiC gazli dush kallagi ilg'or yarimo'tkazgichli ishlov berish kameralari uchun maxsus ishlab chiqilgan gaz taqsimlash komponentidir. Ushbu kameralar ichida ekstremal issiqlik, kimyoviy va plazma sharoitlari jarayonning izchilligini ta'minlash uchun ajoyib barqarorlikka ega materiallarni talab qiladi. To'liq zich, yuqori tozalikdagi qattiq kremniy karbid materialidan tayyorlangan ushbu komponent turli xil oldingi yarimo'tkazgichli ishlab chiqarish jarayonlarida bir xil gaz yetkazib berish, barqaror oqim dinamikasi va uzoq muddatli jarayonning takrorlanishini ta'minlashda hal qiluvchi rol o'ynaydi.

Kimyoviy bugʻlarni choʻktirish (CVD) va plazma bilan kuchaytirilgan kimyoviy bugʻlarni choʻktirish (PECVD) jarayonlarida, Qattiq SiC gazli dush boshi reaksiya zonasiga kiradigan prekursor gazlarning fazoviy taqsimlanishini bevosita boshqaradi. Gaz oqimining bir xilligi plastinka ichidagi va plastinkadan plastinkaga plyonka qalinligini aniq boshqarish, kompozitsion bir xillik va takrorlanadigan elektr xususiyatlariga erishish uchun juda muhimdir. An'anaviy kvarts yoki qoplangan grafit dizaynlari bilan taqqoslaganda, CVD gazli dush boshlari yuqori harorat, korroziv kimyoviy moddalar va plazma muhitiga uzoq vaqt ta'sir qilgandan keyin ham aniq teshik geometriyasi va oqim xususiyatlarini saqlab qoladi.

Plazma o'yib ishlov berish jarayonlari davomida gazli dush kallagi agressiv ftor va xlor asosidagi kimyoviy moddalarga bardosh berishi kerak, shu bilan birga zarrachalar hosil bo'lish tezligini past darajada saqlaydi. Qattiq kremniy karbidi plazma bardoshliligi va korroziyaga chidamliligini ta'minlaydi, qoplangan yoki kompozit tuzilmalarga nisbatan zarrachalar hosil bo'lishini sezilarli darajada kamaytiradi. Bu kritik o'lcham (KO) bir xilligini oshiradi, barqaror o'yib ishlov berish profillarini ta'minlaydi va profilaktik texnik xizmat ko'rsatish vaqtlarini uzaytiradi.

Qattiq SiC gazli dush kallaklarining roli kremniy karbidi (SiC) va galliy nitridi (GaN) epitaksial o'sishda yanada muhimroq bo'lib bormoqda. Ushbu qo'llanmalar odatda 1500 °C dan yuqori haroratlar va vodorodga boy muhitlarni o'z ichiga oladi. GaN Epitaksial gaz taqsimlash komponenti shunchaki mexanik qism emas, balki epitaksial qatlam sifatini ta'minlovchi asosiy elementdir. Qattiq kremniy karbidining ajoyib issiqlik barqarorligi, past issiqlik kengayish koeffitsienti va vodorodning aşınmasına chidamliligi unga uzoq muddatli, yuqori haroratli o'sish sikllari davomida kremniy, uglerod va qo'shimcha prekursorlarni ishonchli tarzda yetkazib berish imkonini beradi.

Ishlab chiqarish jarayoni va narx nuqtai nazaridan, Solid SiC gazli dush boshining monolit tuzilishi qoplama delaminatsiyasi va interfeys bilan bog'liq nosozliklar xavfini yo'q qiladi. Uning uzaytirilgan xizmat muddati almashtirish chastotasini, kameraning ishlamay qolish vaqtini va texnik xizmat ko'rsatish bilan bog'liq hosil yo'qotishlarini sezilarli darajada kamaytiradi. Yarimo'tkazgich fabrikalari va uskunalar ishlab chiqaruvchilari uchun bu uskunaning ish vaqti, jarayon barqarorligi va umumiy ishlab chiqarish samaradorligini sezilarli darajada yaxshilaydi. Xitoyning yarimo'tkazgichli epitaksiya sektoridagi yetakchi texnologiya provayderi sifatida Semixlab yarimo'tkazgichlar sanoati uchun ilg'or texnologiyalar va moslashtirilgan Solid SiC dush boshi yechimlarini yetkazib berishga sodiq qoladi. Semixlab sizning Xitoyda uzoq muddatli hamkoringiz bo'lishni chin dildan kutmoqda.