EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Yuqori toza kvarts diffuziya trubkasi
Semixlab yarimo'tkazgichlarni oksidlanish, diffuziya va tavlanish jarayonlari uchun yuqori tozalikdagi kvarts diffuziya quvurlarini loyihalash va ishlab chiqarishga ixtisoslashgan Xitoyda etakchi kvarts komponentlari ishlab chiqaruvchisi. Ultra toza eritilgan kremniydan (≥99.99% SiO₂) ishlab chiqarilgan va aniq shakllantirish va qattiq ifloslanish nazorati orqali tozalangan, har bir naycha ajoyib termal barqarorlikni va juda past metall aralashmalari darajasini ta'minlaydi. Keyingi maslahatlashuvingizni kutaman.
Tavsif
Semixlab yuqori toza kvarts diffuziya trubkasi yarimo'tkazgichlar ishlab chiqarishdagi yuqori haroratli issiqlik jarayonlari, jumladan oksidlanish, dopant diffuziyasi va tavlanish uchun maxsus ishlab chiqilgan.
Ultra yuqori toza eritilgan kremniy dioksididan (≥99.99% SiO₂) ishlab chiqarilgan har bir naycha ajoyib kimyoviy barqarorlik, minimal ifloslanish va aniq termal bir xillikni ta'minlash uchun mo'ljallangan - talab qilinadigan toza xona muhitida gofretni izchil qayta ishlash natijalarini ta'minlaydi.
Vertikal yoki gorizontal diffuziya pechlariga o'rnatilgan bo'ladimi, Semixlab kvars quvurlari IC, LED, MEMS va quvvat qurilmalarini ishlab chiqarishning qat'iy talablariga javob berish uchun aniq shakllangan va sinchkovlik bilan sinovdan o'tgan.
ilovalar
Yarimo'tkazgich jarayonlarida qo'llanilishi
1. Termik oksidlanish
Termal oksidlanish pechlarida kvarts diffuziya quvurlari yuqori haroratlarda (900-1150 ° C) kremniy gofretlari O₂ yoki H₂O bug'lariga ta'sir qiladigan asosiy reaktsiya kamerasi vazifasini bajaradi.
● SiO₂ ning bir xil o'sishi uchun toza va barqaror kislorod muhitini ta'minlaydi.
● Darvoza va izolyatsiya oksidlari uchun yuqori dielektrik yaxlitligini ta'minlab, metall ionining ifloslanishini yo'q qiladi.
Yuqori toza kvarts diffuziya trubkasi gofretni qayta ishlash uchun ideal
2. Dopant diffuziyasi
Kvarts diffuziya quvurlari kerakli birikma profillarini yaratish uchun qo'shimcha atomlarni (fosfor yoki bor kabi) silikon substratga tarqatish uchun ishlatiladi.
● Ajoyib kimyoviy inertlik POCl₃ yoki BBr₃ reaktsiyalari paytida ifloslanishning oldini oladi.
● Halojen asosidagi atmosferalarda ham yuqori tozalikni saqlaydi.
3. Yuvish va kiritish jarayonlari
Ion implantatsiyasi yoki yotqizilgandan so'ng, gofretlar qo'shimcha moddalarni faollashtirish va panjara shikastlanishini tiklash uchun yuqori haroratli tavlanishdan o'tadi.
● Kvars quvurlari barqaror va takrorlanadigan natijalar uchun termal jihatdan bir xil, past ifloslanish kamerasini ta'minlaydi.
● N₂ uchun ham, gazni yumshatish muhitini shakllantirish uchun ham javob beradi.
4. LPCVD va R&D termal ishlov berish
Kichik o'lchamli LPCVD yoki tadqiqot pechlarida kvarts diffuziya quvurlari ham reaktsiya, ham saqlash kamerasi bo'lib xizmat qilishi mumkin.
● Polisilikon, kremniy nitridi va oksidli plyonkalarni cho'ktirish uchun ideal.
● Kam zarrachalar hosil bo'lishini va yugurishlar bo'ylab yuqori takrorlanishini ta'minlaydi.
raqobat afzalligi
Semixlab afzalliklari
1. Materialning tozaligi va kuzatilishi
Har bir kvarts trubkasi sertifikatlangan etkazib beruvchilardan olingan ultra toza eritilgan kremniy oksididan tayyorlanadi. ICP-MS tahlil hisobotlari so'rov bo'yicha mavjud bo'lib, har bir partiyaning kuzatilishini kafolatlaydi.
2. Nozik ishlab chiqarish va moslashtirish
Semixlab mijozlar tomonidan talab qilinadigan pechning o'ziga xos o'lchamlari, termal profillari va gaz oqimi naqshlarini qondirish uchun moslashtirilgan dizaynlarni taklif etadi.
Tanlovga quyidagilar kiradi:
● Vertikal yoki gorizontal quvur konfiguratsiyasi
● Moslashtirilgan diametrlar, devor qalinligi va so'nggi troyniklar
● Cilalangan yoki chizilgan sirt qoplamalari
● Ko'p gofretli tashuvchilar uchun maxsus ishlov berish dizaynlari
3. Qattiq sinov va sifat kafolati
Har bir diffuziya trubkasi jo'natilishdan oldin o'lchovli tekshiruvdan, sirt yaxlitligi sinovidan va termal stress simulyatsiyasidan o'tadi. Bu TEL, Kokusai, Centrotherm va ASM kabi sanoatning etakchi diffuziya pechlari tizimlari bilan mosligini ta'minlaydi.
