Yarimo'tkazgichli kvarts gofreti

Semixlab Semiconductor Quartz Gofreti - bu yarimo'tkazgichlarni qayta ishlashning talabchan muhitlari uchun mo'ljallangan, nozik sayqallangan, ultra yuqori toza eritilgan silika substrati.

Termal oksidlanish, CVD / LPCVD, PECVD va litografiya tizimlarida qo'g'irchoq gofret, tashuvchi gofret, optik substrat va fotomaska ​​asosi sifatida keng qo'llaniladi.

99.99% yuqori toza SiO₂ dan ishlab chiqarilgan ushbu kvarts gofreti ajoyib termal barqarorlik, kimyoviy inertlik va optik shaffoflikni ta'minlaydi, bu ilg'or yarimo'tkazgich ishlab chiqarish liniyalarida barqaror va ifloslanishsiz ishlashni ta'minlaydi.

Ⅰ. Materiallar va sirt xususiyatlari

● Material: Sintetik yoki tabiiy eritilgan kremniy oksidi (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Diametr variantlari: 2", 4", 6", 8", 12" (sozlangan o'lchamlar mavjud).

● Yuzaki pardozlash: Ikki tomonlama silliqlangan, tekislik ≤ 5 mkm, sirt pürüzlülüğü ≤ 0.5 nm.

● Termal qarshilik: 1200 ° C gacha doimiy ishlashga barqaror.

● Termal kengayish koeffitsienti: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optik uzatish: 190 nm dan 2,600 nm gacha >90%.

Har bir gofret yarimo'tkazgich darajasi talablariga to'liq mos kelishini ta'minlash uchun qattiq sirt tekshiruvidan, o'lchovli tekshiruvdan va tozalik tahlilidan o'tadi.

Ⅱ. Yarimo'tkazgich jarayonlaridagi asosiy funktsiyalar

1. CVD va LPCVD tizimlarida jarayon tashuvchisi

Kvars gofretlari SiO₂, Si₃N₄ va polisilikon yupqa plyonka cho'kishi paytida gaz oqimi va haroratning bir xilligini barqarorlashtirish uchun qo'g'irchoq yoki spacer gofret sifatida ishlatiladi. Ularning o'lchamdagi aniqligi plyonkaning bir xil o'sishini va cho'kma davrlari davomida minimal zarracha hosil bo'lishini ta'minlaydi.

2. Oksidlanish va diffuziya pechlarini qo'llash

Yuqori haroratli oksidlanish va dopant diffuziya jarayonlarida kvarts gofretlari issiqlik qalqonlari yoki texnologik monitorlar vazifasini bajaradi, bir xil harorat taqsimotini saqlaydi va ishlab chiqarish gofretlarining ifloslanishini oldini oladi.

3. Optik va litografiyadan foydalanish

Yuqori optik o'tkazuvchanligi va sinishi indeksining bir xilligi tufayli kvarts gofreti fotomaska ​​ishlab chiqarish, DUV ta'sir qilish substratlari va optik kalibrlash vositalari uchun idealdir. U i-line, KrF va ArF litografiya tizimlari uchun yorug'likning izchil uzatilishini kafolatlaydi.

4. Plazma va etching muhitlari

Quruq ishlov berish va plazma CVD tizimlarida kvarts gofretlari halogenga asoslangan gazlarga (CF₄, SF₆, Cl₂) qarshi mukammal dielektrik quvvat va kimyoviy chidamlilikni ta'minlovchi kamera qalqoni yoki plazma oynasi sifatida ishlatiladi.

5. Metrologiya va uskunalarni kalibrlash

Kvarts gofretlari plyonka qalinligi, harorat va tekislikni kalibrlash uchun mos yozuvlar gofreti sifatida xizmat qiladi. Ularning o'ta silliq, nuqsonsiz yuzasi aniq va takrorlanadigan o'lchov natijalarini beradi va jarayonni boshqarish barqarorligini ta'minlaydi.

Odatda qo'llanmalar

● CVD, LPCVD va PECVD tizimlari uchun qo'g'irchoq gofret

● Oksidlanish va diffuziya pechlarida texnologik tashuvchi yoki termal qalqon

● UV/DUV litografiyasi uchun fotomaska ​​substrati

● Uskunani kalibrlash va metrologiya uchun mos yozuvlar gofreti

● Plazma kamerasi oynasi va qirqish jarayoni himoyachisi

Semixlab Semiconductor Quartz Gofreti eng talabchan yarimo'tkazgich jarayonlari uchun ishlab chiqilgan yuqori samarali substratdir. Uning termal barqarorligi, optik aniqligi va kimyoviy tozaligi uni cho'kish, oksidlanish, litografiya va metrologiyada qo'llashda ajralmas qiladi. Har tomonlama moslashtirish va muhandislik yordami bilan Semixlab jarayonning izchilligini, hosil ishonchliligini va operatsion samaradorlikni maksimal darajada oshiradigan yechimlarni taqdim etadi. Biz chin dildan Xitoyda uzoq muddatli hamkoringiz bo'lishga umid qilamiz.